그 곳이 알고싶다! (1) - ASML

 

안녕? 떠먹는 반도체 Editor 화인덕이야

 

 

오늘부터 나는 여러분들과

반도체 장비회사에 대해서

이야기를 나눠볼까 해

그곳이 알고 싶다! 에서 

첫 번째로 소개할 기업은 바로

ASML 이야

 

 

 

본론으로 들어가기 전에

지난 포스팅에서 송이 Editor가

전반적인 반도체 기업 형태를 알려줬지?

만약 읽어보지 않았다면 먼저 읽어보는 걸 추천할게

https://tteoban.tistory.com/5

반도체 기업 형태 알려두림!

 

 

간단하게 반도체 장비회사에 대해서

다시 언급하면

반도체는 설계->생산->조립 및 검사->유통

과정을 거치는데

설계와 제조가 합쳐진 형태가 많았던 과거와 달리

정보화 사회에 접어들게 되면서 특정 과정만

담당하게 되는 기업들이 나타났어

그중 반도체 생산과정에서

필요한 장비를 공급하는 회사로

반도체 장비회사가 나타나게 된 거야.

 

 

 

한마디로,

반도체를 생산하기 위한 장비를

제작 및 공급하는 회사가 바로

반도체 장비회사야

 

 

 

반도체의 미세 공정에 대한 수요가 증가하면서

그에 따라 반도체 장비를 구성하는 기술력도

점차 고도화되고 있어

이렇다 보니 후발주자들은 상대적으로 

기술 경쟁력에서 매우 힘든 싸움을 하게 되고

그래서 반도체 장비 분야는

독점적 성향이 강한 분야로 알려져 있기도 하지

 

 

 

오늘은 이러한 반도체 장비회사 중

ASML에 대해서 설명해주려고 해

 

ASML

슈퍼 '을'이라고 불리는 장비 회사

본사 소재지 : 네덜란드 벨트호벤

 

1996년 한국 오피스 설립	1400+ 이상의 직원
4 곳의 한국내 오피스	70% 이상이 밀레니얼 세대인 젊은 조직

• 회사의 Purpose

Unlocking the potential of people and society by pushing technology to new limits.

(새로운 한계로 기술을 발전시켜 사회와 사람들의 잠재력을 이끌어낸다.)

 

 

• 회사의 Vision

We enable groundbreaking technology to solve some of humanity’s toughest challenges.

(인류의 가장 어려운 과제들을 해결하기 위한 획기적인 기술을 만든다.)

 

 

• 회사의 Mission

Together with our partners, we provide leading patterning solutions that drive the advancement of microchips.

(파트너와 함께 마이크로칩의 발전을 이끌어내는 선도적인 패턴 기술을 제공한다.)

 

 

 

 

역사 (초라한 시작, 창대한 결과)

• 1980s

1984년

필립스와 반도체 제조회사인 ASMI(Advanced Semiconductor Materials)가

점차 성장하는 반도체 시장에서 리소그래피 시스템을

개발하기 위해서 설립

1970s부터 진행한 R&D를 기반으로 

 PAS 2000 Stepper 출시

 

1985년

현재 본사 소재지인 

네덜란드 벨트호벤으로 이사

 

1986년

PAS 2500 Stepper 출시

렌즈 제조업체인 Carl Zeiss와 파트너십 채결

 

1988년

필립스가 대만에 Joint-Venture Foundary 공장을 설립한 이후

아시아 시장에 본격적으로 진출

 

• 1990s

1990년

PAS 5500 Stepper 출시

 

1995년

암스테르담과 뉴욕 증권거래소에 상장된

완전한 독립 공기업으로 탈바꿈

 

• 2000s

2001년

Wafer의 노광 위치를 결정하고 광학적 이미지의 높이를 결정하는

TWINSCAN system 개발 (특허)

 

2006년 XT:1700i

2007년 TWINGSCAN XT:1900i

를 통해 렌즈와 웨이퍼 사이의 물로 이루어진 층을 통해

빛을 투사함으로써 더 작은 칩 생산이 가능하도록 만듦

 

2007년

반도체 설계 및 제조 최적화 기술을 갖춘 BRION 인수

 

 

• 2010s

2010년

최초의 EUV lithograpy Tool(NXE:3100) 개발

 

2013년

EUV 개발을 가속화하기 위해

리소그래피 제조업체 Cymer 인수

 

2016년

e-beam metrology 기술을 가진

HMI(Hermes Microvision) 인수

 

• 2020s

2020년

EUV 대량 생산 전환

 

2023년 (예정)

EXE 라고 불리는 차세대 EUV 플랫폼

개발 및 판매 예정

 

출처 - https://www.asml.com/en/company/about-asml/history

Our history - Supplying the semiconductor industry

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회사의 역사를 보면 알 수 있듯

현재 ASML은 EUV 공정에

엄청난 공을 들이고 있음을 알 수 있어

 

 

 

그렇다면 EUV에 대해서 궁금증이 생길 텐데

EUV는 Extreme Ultra Violet의 약자로

기존 자외선을 이용한 UV 공정에서

보다 파장이 짧은 EUV를 이용해서

Lithography 공정을 진행하는 공정 기술을 말해

 

 

 

왜 파장이 짧은 자외선을 이용하는 걸까?

그 이유는 바로 빛의 회절 특성 때문이야

빛은 파장이 클수록 회절이 잘 일어나는 거 알고 있지?

현재 3 나노 공정에 대한 경쟁이 심해지고 있는데

이러한 초미세 공정에서 파장이 큰 빛을 이용하게 되면

의도된 패턴과 다른 감광액에

빛을 조사하게 되는 문제점이 발생할 수 있어

그렇기 때문에 이러한 오차를 줄이기 위해서

EUV를 이용하는 거지!

 

 

 

그런데

EUV는 공기를 통과하거나 렌즈를 통과하면

그 빛의 세기가 매우 줄어들게 돼

따라서 EUV 공정에는 기본적으로

진공으로 구성되고, 렌즈 대신 특수 거울을 사용하는

반도체 장비를 이용해야 하는데

이러한 장비의 금액이 매우 높고 제작이 어렵기 때문에

전 세계에 이러한 금액을 지불할 회사가 얼마 없어

하지만 현재 추세로 EUV 공정은 반드시 필요한 공정 방법이라

EUV 공정장비에 대한 수요는 존재할 수밖에 없지!

 

 

 

ASML은 불가능하다고 생각한 EUV 공정을

진행할 수 있는 장비를 제작하는

유일한 기업이야

이와 같은 이유로 ASML이

슈퍼 '을' 장비회사라는 타이틀을 얻게 된 거지

 

 

기술

• EUV 리소그래피 : EUV 장비의 NA값을 0.55(High-NA)까지 높인 차세대 EUV 장비 연구개발
• DUV 리소그래피 : 뛰어난 생산성과 우수한 이미징 및 오버레이 성능으로 시장 우위 점유에 대한 핵심 기술
• 계측 및 검사 : Metrology Solution으로 웨이퍼에 구현된 이미징을 빠르게 측정, 실시간으로 데이터 전달
• 소프트웨어

 

 

ASML은 장비회사이지만

소프트웨어 개발에도 힘을 기울이고 있어

복잡하고 작은 패턴을 구현하기 위해

리소그래피 시스템을 움직이려면

소프트웨어가 필수적이기 때문이지!

 

 

지원 가능 분야

• 고객사 서포트 : 삼성 및 SK 하이닉스와 같은 고객사의 장비 운영을 원활하게 하는 역할
• 로지스틱스 : 고객사들이 필요한 부품과 작업을 수행할 수 있게 하는 역할
• 지원부서 : 인사, 재무, IT 등 회사의 전반적인 운영을 담당하는 역할

 

 

 

오늘은 반도체 장비회사인

ASML에 대해서 알아보는 시간이었어

개인적으로 관심 가는 회사가 있다면

그 회사의 역사와 가치관을 알아보는 것도

좋다고 생각해

 

좀 더 관심이 있다면 ASML 홈페이지에 들어가서

자세하게 알아보는 시간을 가져보는 것도 좋을 것 같아

다음 시간에도 떠먹어 보자~

 

Editor. 화인덕